消息称苹果正测试 ALD 工艺，为下一代 iPhone Pro 镜头添加抗反射光学涂层

　　4 月 16 日消息，消息源 yeux1122 近日在其 Naver 博客上曝料，表示从苹果供应链处获悉，苹果正测试新的抗反射光学涂层技术，可以减少镜头炫光和鬼影等伪影，从而提高照片质量。 　　供应链消息称苹果正在考虑在 iPhone 相机镜头制造工艺中，引入新的原子层沉积(ALD)设备。

　　原子层沉积(Atomic layer deposition，ALD)是一种基于连续使用气相化学过程的薄膜沉积技术，将物质以单原子膜形式逐层镀在衬底表面的方法。ALD 是一种真正的纳米技术，以精确控制方式实现纳米级的超薄薄膜沉积。

　　而具体到相机镜头方面，ALD 工艺主要用来喷涂抗反射涂层，这有助于减少摄影伪影。例如当太阳等强光源直接照射镜头时，最终拍摄的图像中可能出现条纹和光晕，而 ALD 可以减少这些图像失真现象。附上截图如下：

　　此外，ALD 应用材料可以防止环境对相机镜头系统造成损害，同时又不会影响传感器有效捕捉光线的能力。

　　博文表示苹果计划将该工艺部署到 iPhone 的 Pro 机型中，可能会应用到 iPhone 16 Pro 系列或者明年的 iPhone 17 Pro 系列上。